PVD真空镀膜装饰薄膜常用材料及其常用气体不同，制作出那些种类装饰颜色涂层
以下是PVD真空镀膜装饰薄膜常用材料及其常用气体制作的各类装饰颜色涂层:
锆靶+氮气:黄绿调金黄色
锆靶+甲烷:深浅黑色
锆靶+氧气:白色、透明膜
锆靶+氮气+甲烷:金色、仿玫瑰金
铬靶+甲烷:深浅黑色
铬靶+氮气:浅黑色
铬靶+氮气+甲烷:银灰色
铬靶+氧气:轻黄色、紫色、绿色
铬靶+氧气:银色
不锈钢靶+氧气:紫色
不锈钢靶+氮气:蓝色
不锈钢靶+甲烷:亮黑色
不锈钢靶+甲烷+氮气:蓝黑色
硅靶+氮气:黑色
硅靶+氧气:混浊白、透明膜
硅靶+甲烷:黄色、绿色、蓝色、黑色(靶材纯度高于99%仅能调黑色)钛靶+氧气:光学膜七彩截色.
钛靶+甲烷:深浅黑色( DLC制备不能达标)
钛靶+氮气:仿金色、黄铜色、紫色、红色
钛靶+氮气+甲烷:仿玫瑰金、黑绿色、复古黄、棕色、紫色钨靶+氮气:棕黄色钨靶+甲烷:深浅黑色
钨靶+氧气:紫色,鲜黄色,棕色,蓝色.
真空蒸镀与溅射镀膜优缺点
蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
溅射镀膜组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。
蒸镀不适用于大规模生产，不适用于高熔点材料,如钼,钨。因为熔点高,蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多。
溅射不适用于低硬度材料、非导电材料,如非金属材料。
真空蒸镀与真空溅镀，离子镀之间的区别是什么
您好，为您查询到了
1、真空蒸镀
真空性蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，通过一定的加热蒸发方式将镀膜材料(或称膜料)蒸发和气化，将颗粒飞散到衬底表面，形成薄膜。
优点
工艺简便，纯度高，通过掩膜易于形成所需要的图形
缺点
蒸镀化合物时由于热分解现象难以控制组分比，低蒸气压物质难以成膜
2、溅射镀膜
溅射镀膜是指在充满惰性气体(如Argon)的空间内，通过施加高压向材料(目标)放电，将氧化铝电击成原子，与目标碰撞，使目标原子脱落，粘附在基板上形成薄膜的过程。
优点
溅射附着性能好，易于保持化合物、合金的组分比
缺点
需要溅射靶，靶材需要精制，而且利用率低，不便于采用掩膜沉积
3、离子镀
离子镀是在真空环境中，利用高压气体放电将镀料蒸发后离子化，沉积在产品表面形成镀膜的过程。
采用离子镀工艺后，镀层质量很好，镀层组织致密，不会产生针孔、气泡等常规镀层，产品表面厚薄均匀，甚至可在有凹槽或菱角的不规则产品表面上离子镀膜。
优点
离子附着性能好，化合物、合金、非金属均可成膜
缺点
装置及操作均较复杂，不便于采用掩膜沉积
希望能帮助到您【摘要】
真空蒸镀与真空溅镀，离子镀之间的区别是什么【提问】
您好，为您查询到了
1、真空蒸镀
真空性蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，通过一定的加热蒸发方式将镀膜材料(或称膜料)蒸发和气化，将颗粒飞散到衬底表面，形成薄膜。
优点
工艺简便，纯度高，通过掩膜易于形成所需要的图形
缺点
蒸镀化合物时由于热分解现象难以控制组分比，低蒸气压物质难以成膜
2、溅射镀膜
溅射镀膜是指在充满惰性气体(如Argon)的空间内，通过施加高压向材料(目标)放电，将氧化铝电击成原子，与目标碰撞，使目标原子脱落，粘附在基板上形成薄膜的过程。
优点
溅射附着性能好，易于保持化合物、合金的组分比
缺点
需要溅射靶，靶材需要精制，而且利用率低，不便于采用掩膜沉积
3、离子镀
离子镀是在真空环境中，利用高压气体放电将镀料蒸发后离子化，沉积在产品表面形成镀膜的过程。
采用离子镀工艺后，镀层质量很好，镀层组织致密，不会产生针孔、气泡等常规镀层，产品表面厚薄均匀，甚至可在有凹槽或菱角的不规则产品表面上离子镀膜。
优点
离子附着性能好，化合物、合金、非金属均可成膜
缺点
装置及操作均较复杂，不便于采用掩膜沉积
希望能帮助到您【回答】
